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DIC Forum·重磅嘉賓 | 邁康尼 (Mycronic) 產品經理Robert Eklund將出席并發表演講

2021-06-07 09:12:09

倒計時

27-Day countdown to DIC 2021

當前，中國已經成為全球新型顯示產業的重要成長極，作為中國顯示產業唯一的國家級行業協會，中國光學光電子行業協會液晶分會（CODA）精心打造的中國國際顯示產業高峰論壇（DIC Forum）十二年初心不改，為顯示行業獲取前沿資訊，洞悉行業前景、創建交流契機提供專業平臺，始終順應產業發展趨勢，旨在聯結顯示產業鏈上下游，力圖推動產業鏈完善自主，協同共進。

2021年6月29日-30日，DIC Forum 2021將在上海浦東嘉里大酒店隆重啟幕，屆時會議現場將迎來歐陽鐘燦院士、鄭有炓院士、彭壽院士等行業大咖論道，觀眾可與國際顯示行業專家近距離交流，看BOE、TCL華星、維信諾、天馬微、默克、應用材料、奧寶、康寧、上海微、索尼、欣奕華、相干、集創北方、東京毅力科創等企業風采，體驗最新賦能產業的創新成果，共商全產業協同集聚發展。

演講嘉賓

邁康尼電子設備（上海）有限公司

Robert Eklund

演講主題：《光掩模是平板顯示器制造中的關鍵部件，對未來顯示器的創新是不可或缺的》

演講概要：今天，無論我們在哪里，我們都會發現自己被復雜的顯示技術所包圍——從電視、臺式顯示器、筆記本電腦、平板電腦、智能手機、可折疊手機、VR/AR到車載顯示器——這些技術為用戶提供了生動的高畫質體驗。顯示器的發展是由顯示器行業的快速技術發展推動的。如何設計和制造TFT（薄膜晶體管）是生產高質量高端顯示器的關鍵之一。隨著每個像素電路的復雜性和層數的增加，其變得更具挑戰性。這些趨勢使光刻對圖像質量和光罩放置的要求更加嚴格。因此，顯示用最高端光罩的要求可與280~300nm半導體設計節點光罩相媲美。許多半導體技術現在被用于顯示器制造，如OPC（光學鄰近校正），這意味著亞微米特性在高級層中越來越普遍。然而，顯示用光罩比6英寸標準半導體光罩大30-80倍，因此需要24-48小時的曝光時間。因此，穩定性、位置精度和圖像質量均勻性是光罩制造中支持未來顯示創新的重要組成部分。

作為顯示行業生產光罩光刻機的唯一供應商，Mycronic在技術的更新，以及支援顯示行業創新方面有著悠久的歷史。在本文中，Mycronic將分享最新的激光光刻機的開發，以及通過大數據分析，在初始階段就能幫助和改善光罩廠的運營。

DIC EXPO

The Photomask, A Critical Part in FPD Manufacturing, Indispensable for Future Display Innovations

Introduction：Everywhere we look today, we find ourselves surrounded by sophisticated display technologies – from TVs, Desktop Monitors, Notebooks, Tablets, Smartphones, Foldable phones, VR/AR to displays in cars – and those provide a great picture quality for a vivid experience to the users. The evolution of the displays are driven by a fast technological development in the display industry. One of the critical areas for the production of quality high-end displays is how to design and fabricate TFTs (Thin Film Transistors). It becomes more challenging as complexity of each pixel circuit and number of layers are increasing. These trends have tightened the lithography requirements for both image quality as well as placement on photomasks. As a result, the top critical display photomasks requirements are comparable to 280 ~ 300nm semiconductor design node photomasks. Many semicon techniques are now used in display manufacturing such as OPC (Optical Proximity Correction) meaning submicron features is getting common for advanced layers. However, a display photomask is 30 – 80 times larger than the 6”standard semiconductor photomask and consequently requires 24 – 48 hours exposure time. Therefore, stability, position accuracy and image quality uniformity is essential components at photomask manufacturing to support future display innovations.

As a unique supplier within display photomask writer, Mycronic has a long history in the evolution of the technologies to support display innovation. In this paper, Mycronic will share the latest laser photomask writer development together with the initial stage of applying big data analytics to improve mask shop operation.

嘉賓履歷

Robert Eklund

邁康尼電子設備（上海）有限公司產品經理

Robert Eklund是Mycronic AB的產品經理。他在公司的多個崗位上有13年的工作經驗，主要從事研發工作，他參與了使用開創性技術對FPD和IC生產所用的光刻機進行的研發工作。

在演講中，我們會對生產高端顯示面板所使用的光罩的重要性加以討論。Robert擁有光罩生產和其他相鄰領域的多項專利。在開始職業生涯前，Robert獲得了斯德哥爾摩皇家理工學院工程物理理學碩士學位。

參會費用

票價：3500元/人；

早鳥價：3000元/人，優惠碼：【DIC2021】5.31前報名專享

（早鳥價已截止~）

會員價：3000元/人（液晶分會CODA會員專享，會員碼請聯系協會工作人員索?。?/span>

聯系方式

CODA

Mobile: 010-5716-1800

E-mail: member@coda.sinanet.com

JTB 胡女士

Mobile: +86 18616824191

E-mail: dic2021@jtbsha.com

DIC Forum

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DIC EXPO

2021年DIC EXPO觀眾火熱報名中……

展會時間：2021.6.30-7.2

展會地址：上海新國際博覽中心

DIC EXPO

Shenzhen International Cross-border E-commerce Trade Fair 2019

2019 第三屆深圳國際跨境電商交易博覽會

2019.11.03

www.icbeexpo.com

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