DIC EXPO 2021 | 晶洲裝備亮相，并榮獲DIC AWARD顯示裝備創(chuàng)新金獎(jiǎng)
2021-07-09 14:08:50
6月30日，由中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)液晶分會(huì)主辦的DIC 2021國(guó)際顯示技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展在上海新國(guó)際博覽中心順利開(kāi)幕，晶洲裝備應(yīng)邀參展，發(fā)揚(yáng)裝備國(guó)產(chǎn)化，展示濕制程裝備國(guó)產(chǎn)化成果。
本次展會(huì)蘇州晶洲裝備科技有限公司以國(guó)際視野、國(guó)產(chǎn)裝備為企業(yè)口號(hào)，在平板顯示領(lǐng)域，從清洗、顯影、刻蝕，到剝離、蒸鍍前清洗，提供了切實(shí)有效的解決方案，以G8.5濕法刻蝕設(shè)備為代表，展出了清洗機(jī)、顯影機(jī)、濕法刻蝕機(jī)、光阻剝離機(jī)、掩模版清洗機(jī)等一系列濕制程主工藝設(shè)備。展會(huì)首日，晶洲裝備的展臺(tái)就吸引了無(wú)數(shù)專(zhuān)家、參展者的駐足，對(duì)晶洲裝備所展出的產(chǎn)品表示了極大的興趣，很多客戶(hù)都現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行了詳細(xì)咨詢(xún)，希望通過(guò)這次機(jī)會(huì)進(jìn)行深入合作。同時(shí)，晶洲裝備也獲得了行業(yè)內(nèi)人士的高度認(rèn)可，在30日晚的DIC AWARD 國(guó)際顯示技術(shù)創(chuàng)新大獎(jiǎng)中，經(jīng)過(guò)25位專(zhuān)家的評(píng)審，我司G8.5濕法刻蝕設(shè)備榮獲裝備創(chuàng)新金獎(jiǎng)，總經(jīng)理蔣新先生上臺(tái)接受了頒獎(jiǎng)。DIC AWARD作為我國(guó)面板業(yè)界極具影響力和權(quán)威性的獎(jiǎng)項(xiàng)，旨在對(duì)顯示產(chǎn)業(yè)技術(shù)未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)、產(chǎn)品與技術(shù)創(chuàng)新、創(chuàng)新應(yīng)用等各方面具有突出貢獻(xiàn)和重要影響的產(chǎn)品或解決方案進(jìn)行表彰。中國(guó)作為全球最大的消費(fèi)電子市場(chǎng)，在平板顯示領(lǐng)域，由于國(guó)內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展晚于日韓企業(yè)，該領(lǐng)域的前、中段生產(chǎn)設(shè)備主要由國(guó)外企業(yè)壟斷，在一些核心設(shè)備上無(wú)法突破，屢屢受制于人。而由于研發(fā)周期長(zhǎng)、設(shè)計(jì)門(mén)檻高、資金投入大，國(guó)內(nèi)廠商少有涉足顯示設(shè)備領(lǐng)域。晶洲裝備自主研發(fā)的G8.5濕法刻蝕設(shè)備，在設(shè)備綜合性能方面，包括設(shè)備穩(wěn)定性、安全性、均一性等都達(dá)到甚至超過(guò)進(jìn)口設(shè)備水平，并且由于本土優(yōu)勢(shì)，在成本、售后、響應(yīng)速度等方面遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)越于國(guó)外廠商，專(zhuān)家們對(duì)晶洲裝備在創(chuàng)造性、創(chuàng)新性等成果方面給予了充分的肯定。晶洲裝備也將以此次獲獎(jiǎng)為契機(jī)，在今后的發(fā)展中繼續(xù)保持創(chuàng)新勢(shì)頭，將濕制程設(shè)備繼續(xù)做好、做大、做強(qiáng)、做專(zhuān)。
