DIC 2022展商丨晶洲裝備，高端濕制程裝備及工藝技術綜合解決方案提供商
2022-02-14 14:43:53
公司簡介
蘇州晶洲裝備科技有限公司以國際視野、國產裝備為企業口號，在平板顯示領域，從清洗、顯影、刻蝕，到剝離、蒸鍍前清洗，提供了切實有效的解決方案，以G8.5濕法刻蝕設備為代表，研發出清洗機、顯影機、濕法刻蝕機、光阻剝離機、掩模版清洗機等一系列濕制程主工藝設備。
產品優勢：
項目 | 晶洲產品 | 進口裝備 |
刻蝕速率均一性 | ≥92% | ≥90% |
刻蝕線寬均一性 | ≥92% | ≥90% |
線寬誤差 | ±0.8μm | ±0.8μm |
01
清洗機cleaner
成膜前清洗，直徑大于1μm的顆粒物不能超過100顆，以確保制造良率，單張基板需清洗30次以上，占面板制程總工序約30%。
適用基板尺寸：All Size
適用基板厚度：≥0.3mm
清洗方式：UV/AP，DB/RB Brush，HP，BJ/SJ，HPMJ，MS，IR……
設備類型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made
02
顯影機Developer
適用基板尺寸：All Sizle
適用基板厚度：≥0.3mm
顯影類型：Oscilation Type Shower
設備類型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made
工藝能力：
1.High Uniformity Ultra-low Pressure Spray；
2.Excellent Process Reliability，High CD Uniformity；
3.Defoaming Management；
4.No Mist, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；
03
濕法刻蝕機Wet Etcher
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